超純水洗浄

このページでは、TDCで使用している超純水洗浄、純水・超純水についての解説をします。

TDCの洗浄技術・洗浄装置に関しては、以下ページもご参照ください。

• 精密洗浄
• ウエハ洗浄装置
• 半導体洗浄

純水・超純水とは

一般的に純水とは、蒸留やイオン交換などの浄化技術によって不純物が除去された水のことを指します。

更に残存する微粒子や有機物、生菌、溶存ガスなどを除去し、限りなくH2Oに近づけた高度精製水を「超純水」と呼びます。

純水・超純水に明確な基準はありませんが、電気抵抗率が約0.1～15MΩ・cmの水が純水、理論純水の電気抵抗率である18.24MΩ・cmに限りなく近い水が超純水と定義されることが一般的です。

純水と超純水の違いは？

前述のとおり、不純物が除去されたものを「純水」、純水よりさらに不純物が除去されきわめて純度が高くH2Oに近い水のことを「超純水」と呼びます。

純度は電気抵抗率で表され、精密機器・精密部品の洗浄においては「電気抵抗率が高いこと」が必須となります。

そのため、精密加工の分野において超純水洗浄は、不可欠な洗浄方法であるといえるのです。

純水・超純水の種類

純水・超純水は不純物を取り除く方法によって、以下のように分類されることがあります。

• 脱塩水
  イオン交換樹脂などにより塩類を除去した水
• RO水
  逆浸透膜を通した水
• 蒸留水
  水蒸気を冷やして液体にした水

純水・超純水の性質

純水や超純水は別名「ハングリーウォーター」と呼ばれるほど、他の物質を取り込みやすい・溶かしやすいという性質を持っています。

私たちにとって身近な水道水にも物を溶かすという性質がありますが、この性質は不純物を含まないほどに強くなるのです。

純水・超純水で洗浄することで、目に見えないイオンや有機物までも最大限に取り除くことができ、半導体などの精密機器の製造・加工過程でも使われています。

純水・超純水の用途

一般的な水道水や工業用水と比べ、純水・超純水はよりナノレベル・精密さが求められる洗浄などで用いられます。

 

水の種類	用途	電気抵抗率
超純水	半導体デバイス洗浄 液晶ディスプレイ部品洗浄 医療・医薬品製造 火力・原子力発電所 微量分析	15MΩ・cm以上
純水	精密機器洗浄 化学製品製造 飲料原料 理化学実験	0.1～15MΩ・cm
水道水	料理 洗濯 入浴	0.002～0.02MΩ・cm
工業用水	工場の冷却水 雑用水
河川水・湖沼水・地下水	工業用水 水道水の水源

 

TDCでの超純水洗浄

TDCでは、以下の超純水製造装置を導入しています。

メーカー	装置名
オルガノ	UC–2600超純水製造装置
ELGA	超純水製造装置（タンク容量60L） Purelab Chorus

純水装置では不可能な洗浄を行うことができる「超純水装置」を導入することで、より精密機器に必要となる洗浄を行うことが可能となっております。

以下は、超純水製造装置 （オルガノ UC-2600）の超純水生成工程となります。

超純水を用いた洗浄はTDCにご依頼・ご相談ください

TDCでは超純水を用いた専用の洗浄システムにより、パーティクルの付着を極限まで低減させることが可能です。

半導体ウエハの精密洗浄に関しては1枚～対応が可能ですので、お気軽にご相談ください。

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